本文由半导体产业纵横（ID
：
ICVIEWS）综合

在小小的荷兰
，ASML显得异常庞大
。

荷兰国务委员会周三裁定
，半导体设备制造商ASML可以继续在其位于Veldhoven的总部进行扩张
，回绝了两个邻近单位的反对
。

该国最高行政法院表示
，有关新设施将导致交通和噪音问题的投诉
，不足以阻止或改变该项目; 该项目于2022年获得Veldhoven镇议会的批准
。

法院表示
，由于ASML在现场组装大型机器的脆弱性
，有关建议该公司将其部分设施建造在地下实际上不可行
。

法官在裁决中表示
：
“在组件稳定和包装之前
，任何意外的移动都会损坏机器
。”

在Veldhoven的扩建主要是为满足ASML的近期增长需求
。

该公司于4月签署了一份意向书
，涉及在邻近城市埃因霍温北部的一个未开发地区进行更大规模的扩建项目
，该项目大到自2030年左右开始可容纳20000名工人
。

荷兰砸25亿挽留ASML

今年3月
，传闻ASML因为不满移民政策及基础建设欠佳
，有意外移（去法国）
。荷兰政府紧急启动贝多芬（Beethoven）计画留人
，还宣布砸下25亿欧元改善爱因荷芬地区（Einhoven）的交通和基建
，确保ASML不会将业务迁往海外
。

一位ASML工程师则透露
，将ASML 迁往法国不切实际
，因为该公司在法国缺乏供应商和庞大的客户群
。从技术上讲
，ASML将工厂搬到德国的可能性更大
，但整体搬迁的可能性不高
，因为涉及更高的成本
。

为了挽留荷兰的护国神山
，荷兰政府宣布
，将斥资25亿欧元
，改善Einhoven的交通和基础建设
，以确保ASML不会将营运迁往国外
。此计划获得荷兰经济部长Micky Adriaansens 证实
，资金在未来几年将用于改善ASML总部所在地、Einhoven地区的住宅、教育、交通、电网等基础设施
。

根据当地新闻机构ANP 报道
，Micky Adriaansens 强调
，ASML是荷兰最重要的公司之一
，也是一家全球性企业
，并大赞 “ASML 是我们的梅西
，这样的明星球员带来了整个团队” 
。

对于荷兰政府善意回应
，ASML表示欢迎
，强调这些计划不仅让Einhoven地区的科技公司受益
，还将惠及整个荷兰
，但也重申
，公司正在选择未来发展方向
。

ASML预计
，随着芯片业的发展
，未来十年将出现增长
，并指出只要得到有利的经商环境的支持
，例如优秀的人才、基础设施、公共住房供应以及强劲的总体商业环境等
，ASML在荷兰将实现显著增长
。

ASML的EUV影响力巨大

ASML是世界顶级的光刻系统制造商
，这些机器在制造半导体的过程中执行着关键的一步
。它是台积电、三星电子和英特尔最先进芯片制造使用的唯一极紫外光刻机生产商
。

据韩国科技媒体SamMobile报道
，ASML将在未来几个月内推出多台生产2nm制程芯片的设备
，且数值孔径从0.33提高到0.55
。

目前
，EUV光刻机可以支持芯片制造商将芯片工艺推进到3nm左右
，但芯片制造商如果要继续推进到2nm
，甚至更小的尺寸
，就需要更高数值孔径的High-NA曝光机
。

相较于目前的0.33数值孔径的EUV光刻机
，High-NA EUV光刻机将数值孔径提升到0.55
，可进一步提升分辨率
。 根据瑞利公式
，NA 越大
，分辨率越高
。

该技术对两家公司都具有重要意义
，这两家公司都是半导体业务中最重要的公司之一
。英特尔CEO帕特·基辛格（Pat Gelsinger）承诺
，他的公司将获得第一台这种新型机器
，这表明他致力于重返制造技术的最前沿
。

英特尔在一份声明中表示
。D1X 是开发和完善其未来生产技术的关键设施
。

Oddo BHF分析师在本月早些时候的一份报告中表示
，ASML的第一款高数值孔径EUV设备名为Twinscan EXE
：
5200
，售价约为2.5亿欧元（2.75亿美元）
。

分析师在与该公司会面后表示
，第二代高数值孔径EUV机器
，称为EXE
：
5200B
，将具有更高的生产率和超过3.5亿欧元的价格
。

ASML对其目前的高端机器收取约1.8亿美元的费用
。

之前
，英特尔购买了ASML的EUV设备Twinscan EXE
：
5000
，英特尔正在使用它来学习如何更好地使用High-NA EUV设备
，并用于18A制程工艺技术研发
，获得了宝贵的经验
，该公司计划从 2025 年开始使用Twinscan EXE
：
5200量产18A制程芯片
。

配备 0.55 NA镜头的 High-NA EUV 光刻设备可实现 8nm 的分辨率
，与配备 0.33 NA（Low-NA）镜头的标准 EUV相比
，进步显着
，该镜头提供 13nm 分辨率
。预计高数值孔径技术将在后 2nm 级工艺技术中发挥至关重要的作用
，这些技术要么需要使用低数值孔径 EUV 双重图案化
，要么需要使用高数值孔径 EUV 单图案化
。

由于高数值孔径光刻机与低数值孔径光刻机有许多不同之处
，需要对基础设施进行大量更改
，因此
，在竞争对手之前部署Twinscan EXE
：
5200对英特尔来说是一个优势
。一方面
，英特尔将有足够的时间来调整其后18A工艺技术
，另一方面
，该公司将为自己调整High-NA基础设施
，这将使其比竞争对手更具优势
。

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