集微网消息
，6月30日荷兰政府颁布关于半导体设备出口管制的最新条例
，部分媒体将此理解为针对中国的光刻机管制再次升级至所有DUV
，实际上这些新的出口管制条例针对对象为先进的45nm及以下芯片制造技术
，包括最先进的ALD原子沉积设备、外延生长设备、等离子体沉积设备和浸润式光刻系统
，以及用于使用和开发这类先进设备的技术、软件
。

ASML在给集微网的一份声明中强调
，荷兰政府新颁布的出口管制条例只涉及部分最新DUV型号
，包括 TWINSCAN NXT:2000i 及后续推出的浸润式光刻系统
。EUV光刻机在此前已经受到限制
，其他系统的发运未受荷兰政府管控
。根据ASML官网信息
，DUV浸润式光刻系统
，包含
：
TWINSCAN NXT:2050i、NXT:2050i、NXT:1980Di 三种光刻机
，这些能够进行38nm~45nm制程的晶圆加工
。

此外
，能够进行45nm以上晶圆加工
，如65nm~220nm制程的干式DUV光刻机如
：
TWINSCAN XT:400L、XT:1460K、NXT:870等
，均不在荷兰制裁清单内
。

根据集微网翻译的荷兰管制清单如下
：


荷兰外贸和发展合作部部长颁布的MinBuza.2023.15246-27 号条例规定
，对此前第2021/821 号条例附件一中未提及的半导体先进生产设备的出口实行许可要求（有关先进半导体制造设备）

第二条
：
本条例规定
，未经部长许可
，禁止从荷兰出口先进的半导体生产设备
。

第三条
：


1、第二条所述的许可申请
，应由出口商提出并向检察官提交
。

2、在任何情况下
，申请均应包含
：


a出口商名称和地址；

b先进半导体制造设备的收货人和最终用户名称和地址；

c先进半导体制造设备的接受者和最终使用者名称和地址
。

3、在任何情况下
，检察官都有权要求出口商提供有关出口的合同
，和有关最终使用用途的声明
。

第四条
：


第二条所述的许可证
，可以附加条件和规定
。

第二条所述许可的授予
，可以存在限定条件
。

第五条
：


第二条中提到的许可证
，可以在以下情况下被撤销
：


a许可证是根据不正确或不完整信息颁发的；

b未遵循许可证的规定、条件和限制；

c出于国家外交和安全政策的考虑
。

半导体先进生产设备管理规定附录

用于半导体设备或材料的生产设备、软件和技术
，以及为其专门设计的零部件和配件
。

3B001.l

EUV掩膜

3B001.m

EUV掩膜生产设备

3B001.f.4

以下光刻设备
：


a 使用普通光源或X射线进行晶圆加工、对准和重复曝光的设备
，具有以下任何特征
：


1.光源的波长小于193nm；

2.光源的波长≥193nm
，但是能够产生最小可分辨尺寸（MRF）小于或等于45nm的图案；以及套刻精度≤1.50nm
。

业内人士解读指出
，荷兰新规对DUV设备（光源波长大于等于193nm）的限制门槛是同时满足两个条件
：
光源波长×K/数值孔径<=45nm；套刻精度<=1.5nm
。精准地把1980i（套刻精度1.6nm）排除在外
，2000i（套刻精度1.4nm）刚好在线内
。

3B001.d.12

用于金属原子层沉积（ALD）的设备
：


a具备以下所有条件
：


1.一种以上的金属源
，其中一种是以铝（Al）为前体设计的；

2.具有温度高于45℃的进料容器
。

b设计用于沉积具有以下所有特征的金属材料
：


1.沉积碳化钛铝（Ti Al C）；

2.可以使晶体管势垒高于4.0ev的金属材料
。

3B001.a.4

用于硅（Si）、碳掺杂硅、硅锗（SiGe）或碳掺杂硅锗（SiGe）这几种材料外延生长的设备
：


a具有以下所有条件
：


1.在多个腔室和工艺步骤之间保持高真空度（水和氧分压≤0.01Pa）
，或形成惰性气氛（水和氧分压≤0.01Pa）的装置；

2.至少有一个用于清洁晶圆表面的预处理室
，等等；

3.外延沉积工作温度≤685℃
。

3B001.d.19

设计用于介电常数低于3.3的金属线之间
，在宽度小于25nm、长宽比≥1:1的空隙中
，进行无空隙等离子体放大沉积的设备
。

3D007

专门用于开发、生产或操作本法规3B001.l、3B001.m、3B001.f.4、3B001.d.12、3B001.a.4、3B001.d.19项规定的设备而研发的软件
。

3E005

开发、生产或使用本法规3B001.l、3B001.m、3B001.f.4、3B001.d.12、3B001.a.4、3B001.d.19项规定的设备所需的技术
。

“新颁布的管制条例今年9月1日生效
，现在ASML可以开始提交出口许可申请；9月1日之后
，管制条例涉及的设备型号出口需向荷兰政府提交出口许可申请
，由荷兰政府决定是否批准授予许可证
。”ASML方面告诉集微网
。

这意味着9月1日之前发货的DUV光刻机或不受影响
。

为此
，新的出口管制对ASML造成的影响
，ASML回应与几个月前的回应一致
，即“不会对已发布的2023年财务展望以及于2022年11月投资者日宣布的长期展望产生重大影响
。”

针对荷兰将部分光刻机等半导体相关产品纳入出口管制的决定
。中国商务部新闻发言人表示
，中方注意到相关报道
。近几个月以来
，中荷双方就半导体出口管制问题开展了多层级、多频次的沟通磋商
。但荷方最终仍将相关半导体设备列管
，中方对此表示不满
。近年来
，美国为维护自身全球霸权
，不断泛化国家安全概念
，滥用出口管制措施
，甚至不惜牺牲盟友利益
，胁迫拉拢其他国家对中国实施半导体打压围堵
，人为推动产业脱钩断链
，严重损害全球半导体产业发展
，中方对此坚决反对
。

商务部新闻发言人强调
，荷方应从维护国际经贸规则及中荷经贸合作大局出发
，尊重市场原则和契约精神
，避免有关措施阻碍两国半导体行业正常合作和发展
，不滥用出口管制措施
，切实维护中荷企业和双方共同利益
，维护全球半导体产业链供应链稳定
。

中国驻荷兰使馆发言人发表评论表示
：


我们注意到
，荷兰政府正式出台半导体制造设备的出口管制措施
，这是对出口管制措施的滥用
，是对自由贸易和国际经贸规则的严重背离
，中方对此坚决反对
。

当前
，全球半导体产业已形成你中有我、我中有你的产业格局
。中国是世界最大的半导体市场
，也是全球半导体供应链的重要组成部分
。荷方以所谓“国家安全”为由人为设限毫无道理
，完全站不住脚
。在科技领域人为制造壁垒
，在法律上、道义上没有依据
。这种行为不仅损害中国企业的正当合法权益
，也会让荷兰企业蒙受损失
，损害全球产业链供应链的稳定
，还将破坏荷支持自由贸易的良好信誉
。

众所周知
，一段时间以来
，个别大国一再泛化“国家安全”概念
，滥用出口管制措施
，对中国企业进行恶意封锁和打压
，胁迫盟友参与对华经济遏制
。我们呼吁荷方从维护国际经贸规则及中荷经贸合作大局出发
，立即纠正错误做法
。中方将坚决维护自身合法权益
。同时
，也愿与荷方一道
，本着互利互惠的原则
，共同探讨解决方案
，共同推动中荷经贸关系健康发展
。

网友看法

1、网友AnSen71619960
：
技不如人
，反对无效

2、网友正能量溪流m8
：
用经济手段攻击荷兰经济
，使其回到奴隶制社会
。

3、网友空多也
：
早日攻克卡脖子技术
，后发制人
，师夷长技以制夷

4、网友ZjwZjw
：
你能做到90nm他们禁止到45nm,你能做到45nm
，他们会退到28nm
，现在球给了上海微电子
。

5、网友金色镰刀
：
就是美国不要用个别大国
，好像中国人说话都是云里雾里

6、网友养了个羊呢
：
什么时候阿斯麦真正的失去中国市场那一天就是我们半导体崛起那一天

7、网友用户9516727906767
：
中科院不是已经发明了最新的卷烟式层叠芯片
？刻在一张纸上然后一折叠
，性能比一纳米芯片还高五倍！你没有看内参吗
？

8、网友懂也不懂1980
：
别急
，大招在路上
，只要中国人想干的事就没有干不成的

9、网友saaaaagogo
：
限制的这么严重
？我还以为只有28nm
，现在45nm都禁了
？

10、网友月下拂筝
：
稀土限制出口…

11、网友我是黑白胶片
：
小心俄罗斯一炮打了asml

12、网友蔷薇薇啦
：
终有一天
，中国人会反超的
，历史会证明的
。

13、网友赫赫有名A
：
九月一日之前
，先买个几千台储备[呲牙]

14、网友Jim博士
：
这篇文章有明显的错误
，把ASML DUV光刻机的分辨率45纳米
，当做了芯片节点的45纳米
。@集微网

15、网友爱我中华1912
：
安可呢
？信创呢
？牛逼呢
？

16、网友自在精灵mz
：
是否违反世贸规定
？

17、网友用户5022533908637
：
本着互利互惠的原则
，共同探讨解决方案
，共同推动中荷经贸关系健康发展
。

18、网友黄义成808035
：
加快自主研发国产芯片
，免得西方集团卡我们的脖子！

19、网友山海相连466
：
弱弱问一句
，不是都到7nm了嘛[泪奔]

20、网友轻松大安9g3
：
给我们开的科研目标单子！大学生加油！！！